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Forno di deposizione chimica a vapore CVD 1000 Ordm C Forno di riscaldamento a fusione

Rassegne del cliente
Caro partner, Grazie per il vostro sostegno e la vostra fiducia nel corso dell'ultimo anno.Non vediamo l'ora di proseguire la nostra stretta collaborazione e di creare insieme un valore ancora maggiore.. Con i migliori saluti, [Accademia Cinese delle Scienze]

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Forno di deposizione chimica a vapore CVD 1000 Ordm C Forno di riscaldamento a fusione

CVD Chemical Vapor Deposition Furnace 1000 Ordm C Melting Heating Furnace
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Grande immagine :  Forno di deposizione chimica a vapore CVD 1000 Ordm C Forno di riscaldamento a fusione

Dettagli:
Place of Origin: China
Marca: Chitherm
Numero di modello: MBF100-10
Termini di pagamento e spedizione:
Minimum Order Quantity: 1
Prezzo: negotiable
Packaging Details: Customized
Delivery Time: Customized
Payment Terms: Customized
Supply Ability: Customized

Forno di deposizione chimica a vapore CVD 1000 Ordm C Forno di riscaldamento a fusione

descrizione
Ampia gamma di applicazioni: Industria Tipo: Forno di tenuta elettrico
Utilizzatori: Sinterizzazione ceramica Carburante: elettrico
Atmosfera: Acido nitrico Dimensioni effettive della camera: 640*640*250mm
Pacchetto di trasporto: Imballaggi in legno Specificità: 1200*1200*1500mm
Marchio: Chitherm Origine: Cina
Codice S.A.: 8514101000 Capacità di alimentazione: 50 serie/anno
Personalizzazione: Disponibile Certificazione: ISO
Stile del luogo: Verticale
Evidenziare:

Forno di deposizione di vapore chimico di riscaldamento

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Fornace di deposizione chimica a vapore 1000 Ordm

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Forno a deposizione chimica da vapore CVD 1000°C Forno di riscaldamento a fusione
Specifiche del prodotto
Attributo Valore
Gamma di applicazioni Industriale
Tipo Forno elettrico di mantenimento
Utilizzo Sinterizzazione ceramica
Combustibile Elettrico
Atmosfera Azoto
Dimensioni effettive della camera 640*640*250mm (L*A*P)
Pacchetto di trasporto Imballaggio in legno
Specifiche 1200*1200*1500mm
Marchio Chitherm
Origine Cina
Codice HS 8514101000
Capacità di fornitura 50 set/anno
Personalizzazione Disponibile
Certificazione ISO
Stile di posizionamento Verticale
Panoramica del prodotto

Il forno a deposizione chimica da vapore (CVD) tipo MBF100-10 è progettato per il trattamento termico a media temperatura dei prodotti elettronici. Esegue processi di reazione in fase gassosa in atmosfere di azoto, elio, acetilene e idrogeno e può essere utilizzato anche per processi di sinterizzazione in atmosfere protettive.

Specifiche tecniche
  • Temperatura nominale: 750°C
  • Temperatura massima: 1000°C
  • Dimensioni della zona di riscaldamento: 770 × 770 × 300 mm (L × P × A)
  • Dimensioni effettive: 640 × 640 × 250 mm (L × P × A)
  • Materiale della camera esterna: SUS310S
  • Materiale del rivestimento interno: Quarzo fuso
  • Dimensioni del prodotto: Φ120
  • Capacità dell'apparecchiatura: 16 substrati per lotto
  • Potenza massima di riscaldamento: 16 kW
  • Metodo di riscaldamento: Fondo + Quattro lati
  • Punti di controllo della temperatura: Fondo + Lato
  • Tipo di termocoppia: Tipo K
  • Velocità di riscaldamento: ≤8°C/min
  • Elementi riscaldanti: Riscaldatori in fibra ceramica FEC
  • Metodo di apertura della porta del forno: Design con apertura dall'alto
  • Stabilità del controllo della temperatura: ±1°C
  • Strumento di controllo della temperatura: Regolatore PID importato con funzione di auto-tuning
  • Passaggi del programma: 20 passaggi
  • Allarme e protezione: Allarmi di sovratemperatura, rottura della termocoppia con protezione di spegnimento
  • Aumento della temperatura superficiale: <35°C
  • Peso: circa 500 kg
  • Dimensioni del forno: circa 1200×1200×1500mm (L×A×P)
Forno di deposizione chimica a vapore CVD 1000 Ordm C Forno di riscaldamento a fusione 0
Lista di consegna
Articolo Nota Q.tà
Composizioni di base Forno 1 unità
Certificati di ispezione Forno e componenti principali acquistati 1 set
Documenti tecnici Specifiche del forno, documenti tecnici dei principali componenti acquistati 1 set
Controller di flusso massico (MFC) Yamatake o HORIBA 4 set
Touch screen 1 PC
Regolatore di temperatura 1 set
Riscaldatore FEC 1 set
Rivestimento in quarzo 1 set
SSR 1 PC
Requisiti dell'impianto
  • Condizioni ambientali: Temperatura 0 - 40°C, umidità ≤ 80% UR, nessun gas corrosivo, nessuna forte turbolenza del flusso d'aria
  • Requisiti del terreno: Livello, nessuna vibrazione evidente, capacità portante > 500 kg/m²
  • Condizioni di alimentazione: Capacità superiore a 22 kVA, 3 fasi 5 linee, tensione 220/380 V, frequenza 50 Hz
  • Sito di installazione: 1500mm×1500mm×3000mm (L×A×P), area di installazione superiore a 2,5 m²
Forno di deposizione chimica a vapore CVD 1000 Ordm C Forno di riscaldamento a fusione 1

Dettagli di contatto
Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd

Persona di contatto: zang

Telefono: 18010872860

Fax: 86-0551-62576378

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